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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:88

题名/责任者:
微纳尺度制造工程/(美) 斯蒂芬A. 坎贝尔著 严利人, 张伟等译
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2011
ISBN及定价:
978-7-121-13428-9/CNY83.00
载体形态项:
XIX, 640页:图;26cm
统一题名:
Fabrication engineering at the micro-and nanoscale
丛编项:
国外电子与通信教材系列
个人责任者:
坎贝尔 (Campbell, S. A.)
个人次要责任者:
严利人
个人次要责任者:
张伟
学科主题:
微电子技术-生产工艺
中图法分类号:
TN405
版本附注:
据原书第3版译出
出版发行附注:
由Oxford University Press, Inc.,U.S.A.授权出版
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。
随书光盘:
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TN405/6 01045444   东3层4区      可借
TN405/6 01045445   东3层4区      可借
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