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- 题名/责任者:
- 微纳尺度制造工程/(美) 斯蒂芬A. 坎贝尔著 严利人, 张伟等译
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2011
- ISBN及定价:
- 978-7-121-13428-9/CNY83.00
- 载体形态项:
- XIX, 640页:图;26cm
- 丛编项:
- 国外电子与通信教材系列
- 个人责任者:
- 坎贝尔 (Campbell, S. A.) 著
- 个人次要责任者:
- 严利人 译
- 个人次要责任者:
- 张伟 译
- 学科主题:
- 微电子技术-生产工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 版本附注:
- 据原书第3版译出
- 出版发行附注:
- 由Oxford University Press, Inc.,U.S.A.授权出版
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了微电子制造科学原理与工程技术,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。
- 随书光盘:
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
TN405/6 | 01045444 | 东3层4区 | 可借 | |
TN405/6 | 01045445 | 东3层4区 | 可借 |
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