MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：59
- 题名/责任者:
- 最好的UI设计师:每一次思考, 都是对自己更好的完善/颜伟著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-121-33641-6/CNY79.00
- 载体形态项:
- 210页:彩图;24cm
- 其它题名:
- 每一次思考, 都是对自己更好的完善
- 个人责任者:
- 颜伟 著
- 学科主题:
- 人机界面-程序设计
- 中图法分类号:
- TP311.1
- 书目附注:
- 有书目
- 随书光盘:
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| TP311.1/123 | 01341990 |  西区4层
|
可借 | |
| TP311.1/123 | 01341989 | 东3层4区
|
可借 |
显示全部馆藏信息