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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：77

题名/责任者:
正流行日本淡彩妆/高溥超, 于俊荣主编
出版发行项:
北京:北京科学技术出版社,2004
ISBN及定价:
7-5304-2904-3/CNY22.00
载体形态项:
55页:彩图;29cm
个人责任者:
于俊荣 主编
个人责任者:
高溥超 主编
学科主题:
化妆-基本知识
中图法分类号:
TS974.1
随书光盘:
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TS974.1/16 00915593   东3层4区      可借
TS974.1/16 00915594   (东)下架室      分馆藏书
TS974.1/16 00915599   (东)下架室      分馆藏书
TS974.1/16 00915600   (东)下架室      分馆藏书
TS974.1/16 00915595   (西)三层(下架)      可借
TS974.1/16 00915596   (西)三层(下架)      可借
TS974.1/16 00915597   (西)三层(下架)      可借
TS974.1/16 00915598   (西)三层(下架)      剔旧报废
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