MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：119
- 题名/责任者:
- 再见, 牛津与剑桥/胡绍学著
- 出版发行项:
- 北京:北京联合出版公司,2017
- ISBN及定价:
- 978-7-5502-9865-1/CNY68.00
- 载体形态项:
- 319页:图 (部分彩图), 肖像;23cm
- 丛编项:
- 建筑与文化随笔集;Ⅰ
- 个人责任者:
- 胡绍学, 1936- 著
- 学科主题:
- 随笔-中国-当代-作品集
- 中图法分类号:
- I267.1
- 责任者附注:
- 胡绍学, 1936年出生于浙江杭州, 清华大学建筑学院教授、清华大学建筑设计研究院有限公司顾问总建筑师。
- 提要文摘附注:
- 本书作者在20世纪80、90年代赴英美等国家进修, 牛津、剑桥是他所有旅程和记忆的起点。与它们再见, 是希望再经历一次记忆中的美好。作者已过耄耋之年, 他在这本书里以一个普通人、一个旅行者的身份, 来记载和描述他在求学之路中看到的建筑、碰到的事情和遇见的人, 还有那些沉淀在城市里的历史与文明。
- 随书光盘:
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 |
| I267.1/1004/V.1 | 01214789 | v.1 |  西区3层
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可借 |
| I267.1/1004/V.1 | 01214788 | v.1 | 东3层2区
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可借 |
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