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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：72

题名/责任者:
高技术未来探索/(日) 片方善治著 厉仁玉, 丁祖泉, 袁丽莉译
出版发行项:
上海:上海科学技术文献出版社,1990
ISBN及定价:
7-80513-609-2/CNY2.80
载体形态项:
155页:图;19cm
个人责任者:
片方善治 著
个人次要责任者:
丁祖泉 译
个人次要责任者:
袁丽莉 译
个人次要责任者:
厉仁玉 译
学科主题:
未来学
学科主题:
技术预测
中图法分类号:
G303
随书光盘:
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
G303/152 E0061736   东6层2区      可借
G303/152 E0061738   东6层2区      可借
G303/152 E0145708   东6层2区      可借
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