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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:61

题名/责任者:
最好的UI设计师:每一次思考, 都是对自己更好的完善/颜伟著
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2018
ISBN及定价:
978-7-121-33641-6/CNY79.00
载体形态项:
210页:彩图;24cm
其它题名:
每一次思考, 都是对自己更好的完善
个人责任者:
颜伟
学科主题:
人机界面-程序设计
中图法分类号:
TP311.1
书目附注:
有书目
随书光盘:
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TP311.1/123 01341990   西区4层      可借
TP311.1/123 01341989   东3层4区      可借
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