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MARC状态:已编 文献类型:中文期刊 浏览次数:56

题名/责任者:
应用光学
出版发行项:
西安:西安应用光学研究所,1980-
ISSN及定价:
1002-2082
统一书刊号:
61-1171
载体形态项:
?vol.;26-30cm.
起止卷期:
1980, no. 1-1991, no. 6 = 总1-67
并列正题名:
Journal of applied aptics
团体责任者:
中国兵器工业第二○五研究所 主办
团体责任者:
西安应用光学研究所 主办
学科主题:
应用光学-期刊
中图法分类号:
O439
一般附注:
本刊系兵工应用光学专业情报网的网刊
出版发行附注:
内部刊物;v.13(1992)起公开发行
出版发行附注:
V.24,no.4(2004)起出版者改为《应用光学》编辑部。
载体形态附注:
V.24(2003)起尺寸为30cm。
相关题名附注:
V.20,no.3(1999)起封面题英文并列题名:Journal of applied aptics。
责任者附注:
V.20,no.2(1999)起书末出版说明题主办机构为:中国兵器工业第二○五研究所;v.21,no.3(2000)起主办机构改题:西安应用光学研究所。
责任者附注:
中国兵器工业第二○五研究所与西安应用光学研究所为同一机构的两个不同名称。
书目附注:
年末有年度目录索引
出版周期附注:
双月刊
随书光盘:
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
O439/14 K0108286 1988 1-5期 东4层3区      非可借
O439/14 K0108285 1987 1-6期 东4层3区      非可借
O439/14 ZK106992 1986 1-6期 东4层3区      非可借
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