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• 005 20070612081331.0

• 010 __ |a 7-81058-898-2 |d CNY260.00 (26册)

• 099 __ |a CAL 012007067109

• 100 __ |a 20070608d2006 ekmy0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 310000

• 105 __ |a ak am 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 2003年上海大学博士学位论文 |A 2003 nian shang hai da xue bo shi xue wei lun wen |i 氧化铝衬底上金刚石的厚膜生长及其微电子学应用研究 |f 作者方志军 |g 导师夏义本

• 210 __ |a 上海 |c 上海大学出版社 |d [2006]

• 215 __ |a 126页 |c 图 |d 21cm

• 300 __ |a 专业: 材料学

• 320 __ |a 有书目 (第118-125页)

• 328 __ |a 学位论文 (博士)--上海大学, 2003

• 330 __ |a 本书分别采用MPCVD、HFCVD方法在氧化铝陶瓷基片上沉积金刚石膜。在沉积金刚石膜之前，首次使用对氧化铝衬底进行碳离子注入的方法，以缓解薄膜与衬底间的应力。通过X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、显微压痕及扫描电子显微镜(SEM)等手段，对离子注入层中碳元素的分布及残余应力随注入条件的变化进行了研究。

• 513 1_ |a Investigation of the diamond thick film grown on alumina substrate and its microelectronic applications |z eng

• 517 1_ |a 氧化铝衬底上金刚石的厚膜生长及其微电子学应用研究 |A yang hua lv chen di shang jin gang shi de hou mo sheng zhang ji qi wei dian zi xue ying yong xing jiu

• 517 1_ |a 上海大学博士学位论文 |A shang hai da xue bo shi xue wei lun wen

• 606 0_ |a 金刚石 |A jin gang shi |x 薄膜 |x 复合材料

• 606 0_ |a 氧化铝陶瓷 |A yang hua lv tao ci |x 复合材料

• 606 0_ |a 学位论文 |A xue wei lun wen |z 2003 |j 汇编

• 690 __ |a TB34 |v 4

• 690 __ |a G643.8 |v 4

• 701 _0 |a 方志军 |A fang zhi jun |4 著

• 702 _0 |a 夏义本 |A xia yi ben |4 指导

• 801 _0 |a CN |b CAU |c 20070612

• 901 __012007025983

• 905 __ |a CAU |d G643.8/10/V.23

• 907 __ |a CAU |f G643.8/10/v.23

• 999 __ |t C |A wyh |a 20070608 11:00:29 |I zxw |i 20070612 08:13:31 |G zxw |g 20070612 08:20:4