机读格式显示(MARC)
- 035 __ |a (NII)BN03989062
- 099 __ |a CAL 032009006485
- 100 __ |a 19891121d1965 km y0jpny50 da
- 200 1_ |a 接着と積層 |A セッチャク ト セキソウ |f 井上幸彦 [ほか] 編
- 210 __ |a 東京 |c 地人書館 |d 1965.7
- 215 __ |a 2, 2, 2, 224p |c 図 |d 22cm
- 225 2_ |a 高分子工学講座 |A コウブンシ コウガク コウザ |f 高分子学会編 |v 9
- 320 __ |a 各章末: 参考文献。巻末: 索引
- 410 _0 |1 2001 |a 高分子工学講座 |A コウブンシ コウガク コウザ |f 高分子学会編 |v 9
- 606 0_ |a 高分子化学工業 |A コウブンシカガクコウギョウ |2 NDLSH
- 701 _0 |a 井上幸彦 |A イノウエ ユキヒコ |3 DA03690142 |4 編
- 711 02 |a 高分子学会 |A コウブンシ ガッカイ |3 DA00047161
- 801 _0 |a CN |b CAU |c 20130319
- 905 __ |a CAU |d J/TQ31/1/V.9