机读格式显示(MARC)

• 000 01289nam0 2200277 450

• 001 0000462075

• 005 20160309175200.0

• 010 __ |a 978-7-03-044967-2 |d CNY108.00

• 099 __ |a CAL 012015111327

• 100 __ |a 20150929d2015 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 现代高纯气体 |A xian dai gao chun qi ti |e 制取、分析与安全使用 |f 尹恩华著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2015

• 215 __ |a 336页 |c 图 |d 24cm

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书从高纯气体与集成电路等的关系说明气体纯度重要性。集成电路的制造包括成膜、刻蚀、掺杂和注入、平衡和清洗等, 无不需要各种高纯气体。高纯气体的制取是本书的核心, 在制取高纯气体方面, 本书介绍国内外最新文献, 包括: 吸附、精馏、离子液体、贮氢材料、钯扩散、熔体合金、膜分离、吸杂剂、多级离心和制备色谱等新技术。除了气相色谱是气体分析的主体外, 书中介绍最新光谱、质谱和纳米技术在高纯气体中杂质分析的应用。考虑高纯气体绝大部分都是易燃易爆和剧毒气体, 使用的安全措施尤为重要, 其内容还包括: 容器、介质、传感器和废气的节能减排。

• 517 1_ |a 制取、分析与安全使用 |A zhi qu 、fen xi yu an quan shi yong

• 606 0_ |a 工业气体 |A gong ye qi ti |x 化工生产

• 690 __ |a TQ116 |v 5

• 701 _0 |a 尹恩华 |A Yin Enhua |4 著

• 801 _0 |a CN |b CAU |c 20160307

• 905 __ |a CAU |d TQ116/1

• 920 __ |a 211180 |z 1