MARC状态：已编 文献类型：西文图书 浏览次数：41
- 题名/责任者:
- Patterning of material layers in submicron region / U.S. Tandon, W.S. Khokle.
- 出版发行项:
- New York : J. Wiley, 1993.
- ISBN:
- 8122405614 (Wiley Eastern)
- ISBN:
- 0470220635 (J. Wiley) :
- 载体形态项:
- xii, 183 p. : ill. (some col.) ; 25 cm.
- 个人责任者:
- Tandon, U. S., 1952-
- 附加个人名称:
- Khokle, W. S.
- 论题主题:
- X-ray lithography.
- 论题主题:
- Integrated circuits-Masks.
- 论题主题:
- Ion beam lithograph.
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- Includes bibliographical references and index.
- 随书光盘:
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